NANOTUSZE

„W naszej firmie Laser Zentrum Hannover szukaliśmy tuszu przewodzącego o wysokiej lepkości specjalnie pod nasz układ mikrodepozycji, w którym zastosowano bardzo wąskie dysze (z otworem <10 µm). Okazało się, że Ag Nanopasta CL85 doskonale nadaje się do naszych zastosowań, gdzie celem jest drukowanie struktur o wielkości poniżej 10 µm. Ag Nanopasta CL85 oferowana przez XTPL pozwala osiągać długie czasy drukowania bez jakichkolwiek przerw.”

Additive Manufacturing – Polymers and Multimaterials Group

Laser Zentrum Hannover e.V., Niemcy

„Ag Nanopasta CL85 pozwoliła nam poprawić rozdzielczość druku w stosunku do innych tuszów o wysokiej zawartości elementów stałych, przy jednocześnie wyjątkowo gładkiej powierzchni uzyskiwanych wzorów.”

Prof. Juan Marcos Fernández-Pradas

Grupa Badawcza MIND (Micro and Nanotechnology and Nanoscopies for Electronic and Electrophotonic Devices), Uniwersytet Barceloński, Hiszpania

„Jesteśmy pod dużym wrażeniem wysokiej stabilności natryskiwania i formulacji Ag Nanotuszu IJ36. Dzięki formulacji tuszu XTPL proces drukowania jest łatwy i pozwala uzyskać stabilne i precyzyjne struktury. Także bardzo dobrze oceniamy zwilżalność na podłożach PEN. Przewodność elektryczna drukowanych struktur jest również bardzo wysoka i zgodna z naszymi oczekiwaniami.”

Pietro Rossi

Grupa ds. Drukowanej i Molekularnej Elektroniki we Włoskim Instytucie Technologicznym (Istituto Italiano di Tecnologia), Mediolan Włochy

„Byliśmy pod wrażeniem wysokości struktur (nawet 200 nm), które udało się osiągnąć dzięki nanotuszowi XTPL Ag IJ36 już po jednym „przejeździe” głowicy. Co ważne, depozycja tuszu XTPL z zastosowaniem metody inkjet jest efektywna zarówno z kartridżami Dimatix 10 pL, jak i 1 pL. Dzięki temu w ramach tej metody jesteśmy teraz w stanie uzyskiwać wysokiej jakości wzory o wyższej rozdzielczości. Z takim tuszem możemy skoncentrować się na badaniach, a nie na problemach związanych z samym drukowaniem.”

Prof. Dr Gordon Elger

Dyrektor ds. Badań nad Opakowaniami dla Mikroeletroniki (Instytut Innowacyjnej Mobilności, Technische Hochschule Ingolstadt) oraz Dyrektor Centrum Badań Stosowanych Fraunhofer „Connected Mobility and Infrastructure” (Instytut Fraunhofera ds. Systemów Transportowych i Infrastrukturalnych IVI Ingolstadt, Niemcy)

„Spółka ZOEK gGmbH współpracuje z XTPL S.A. w ramach projektu EnerScale, którego celem jest zastosowanie Ag Nanotuszu IJ36 XTPL jako elektrody do cienkowarstwowych ogniw słonecznych, zwłaszcza ogniw na bazie perowskitu. ZOEK gGmbH wykorzystuje tusz IJ36 w swoich urządzeniach w Centrum COPT do druku w technologii inkjet na warstwach organicznych, a także na ultracienkim szkle i folii PEN. Zasadniczo drukowanie z wykorzystaniem tuszu IJ36 jest bardzo łatwe i umożliwia uzyskanie struktur o wysokiej rozdzielczości z ostrymi krawędziami, zwłaszcza na ultracienkim szkle. Do uzyskania wysokiej przewodności warstwy srebra wykorzystujemy laserowe spiekanie. Potencjalnie pozwoli to na drukowanie wielkopowierzchniowych i oszczędnych ogniw słonecznych metodą roll-to-roll bez konieczności stosowania drogi procesów próżniowych.”

ZOEK gGmbH

Centrum COPT, Kolonia, Niemcy