NANOTUSZE

Rozwój wysoko-stężonych tuszów bazujących na nanocząstkach metalicznych, pozwala na przezwyciężenie ograniczeń związanych z minimalnym rozmiarem dyszy drukującej.

O NANOTUSZACH XTPL

W ramach pracy nad naszą przełomową technologią ultraprecyzyjnego drukowania opracowaliśmy linię wysoko stężonych tuszów bazujących na nanocząstkach metalicznych (do 85% wag.), charakteryzujących się doskonałą stabilnością i jednorodnością. Tusze XTPL mogą być dozowane przez dysze o średnicy rzędu pojedynczych mikrometrów (nawet 0,5 µm) bez ryzyka zatkania.

PODSTAWOWE ZALETY TUSZÓW XTPL

 

WYJĄTKOWA STABILNOŚĆ DRUKU

  • Zabezpieczenie całego procesu produkcyjnego: od syntezy nanotuszu do stworzenia produktu końcowego
  • Najwyższa jednorodność i stabilność tuszu zapewniająca niezwykle długą żywotność dyszy
  • Tusz przeciwdziałający zatykaniu się dyszy, pozwalający na nieprzerwane, wydajne drukowanie

 

DRUKOWANIE W WYSOKIEJ ROZDZIELCZOŚCI

  • Drukowanie drobnych struktur nawet na niepłaskich podłożach
  • Jednolite, precyzyjne struktury funkcjonalne
  • Doskonała zwilżalność na różnych podłożach w tym na na szkle, SiNx, SiOx, foliach (Kapton, PET, PEN, PC) oraz waflach krzemowych

 

WYSOKA WYDAJNOŚĆ DRUKOWANYCH STRUKTUR

  • Wysoka zawartość komponentu matalicznego (30-85 % wag.)
  • Niezrównana przewodność elektryczna do 50% w odniesieniu do przewodności srebra
  • Wysoki współczynnik wysokości do szerokości po jednorazowej warstwie depozycji tuszu

Specjalne właściwości nanotuszów XTPL pozwalają na skrócenie cyklu rozwojowego, a jednocześnie umożliwiają powtarzalne osiąganie odpowiedniego poziomu rozdzielczości i przewodności elektrycznej.

KOMPATYBILNE Z METODAMI DRUKU:

CHARAKTERYSTYKA PRODUKTU

PRODUKT
IJ36
CL34
CL60
CL85
MetalSilverSilverSilverSilver
Średnia wielkość nanocząstek [nm] (TEM)35 - 5035 - 5035 - 5035 - 50
Kształt nanocząstekKulistyKulistyKulistyKulisty
Zawartość metalu (% wag.)34 ± 230 ± 254 – 6382 ± 2
Oporność elektryczna [Ω.m]*3,95 ∙ 10-83,25 ∙ 10-85,11 ∙ 10-84,2 ∙ 10-8
Lepkość (25°C, szybkość ścinania = 0,2 s-1) [cP]26 - 30200 - 40030 000 - 50 000> 100 000
Rozpuszczalnik(i)Eter glikolowyGlikol(e)Glikol(e)Glikol(e)
Kompatybilne metody druku
  • Inkjet
  • Aerosol Jet (systemy pneumatyczne)
  • Fleksografia
  • LIFT
  • Direct Ink Writing
  • LIFT
  • Direct Ink Writing
  • Ekstrudery
  • LIFT
  • Ultraprecyzyjna depozycja XTPL®

SZCZEGÓŁY PRODUKTU

REFERENCJE

„W naszej firmie Laser Zentrum Hannover szukaliśmy tuszu przewodzącego o wysokiej lepkości specjalnie pod nasz układ mikrodepozycji, w którym zastosowano bardzo wąskie dysze (z otworem <10 µm). Okazało się, że Ag Nanopasta CL85 doskonale nadaje się do naszych zastosowań, gdzie celem jest drukowanie struktur o wielkości poniżej 10 µm. Ag Nanopasta CL85 oferowana przez XTPL pozwala osiągać długie czasy drukowania bez jakichkolwiek przerw.”

 

Additive Manufacturing – Polymers and Multimaterials Group

Laser Zentrum Hannover e.V., Niemcy

„Ag Nanopasta CL85 pozwoliła nam poprawić rozdzielczość druku w stosunku do innych tuszów o wysokiej zawartości elementów stałych, przy jednocześnie wyjątkowo gładkiej powierzchni uzyskiwanych wzorów.”

 

Prof. Juan Marcos Fernández-Pradas

Grupa Badawcza MIND (Micro and Nanotechnology and Nanoscopies for Electronic and Electrophotonic Devices), Uniwersytet Barceloński, Hiszpania

„Jesteśmy pod dużym wrażeniem wysokiej stabilności natryskiwania i formulacji Ag Nanotuszu IJ36. Dzięki formulacji tuszu XTPL proces drukowania jest łatwy i pozwala uzyskać stabilne i precyzyjne struktury. Także bardzo dobrze oceniamy zwilżalność na podłożach PEN. Przewodność elektryczna drukowanych struktur jest również bardzo wysoka i zgodna z naszymi oczekiwaniami.”

 

Pietro Rossi

Grupa ds. Drukowanej i Molekularnej Elektroniki we Włoskim Instytucie Technologicznym (Istituto Italiano di Tecnologia), Mediolan Włochy

„Byliśmy pod wrażeniem wysokości struktur (nawet 200 nm), które udało się osiągnąć dzięki nanotuszowi XTPL Ag IJ36 już po jednym „przejeździe” głowicy. Co ważne, depozycja tuszu XTPL z zastosowaniem metody inkjet jest efektywna zarówno z kartridżami Dimatix 10 pL, jak i 1 pL. Dzięki temu w ramach tej metody jesteśmy teraz w stanie uzyskiwać wysokiej jakości wzory o wyższej rozdzielczości. Z takim tuszem możemy skoncentrować się na badaniach, a nie na problemach związanych z samym drukowaniem.”

 

Prof. Dr Gordon Elger

Dyrektor ds. Badań nad Opakowaniami dla Mikroeletroniki (Instytut Innowacyjnej Mobilności, Technische Hochschule Ingolstadt) oraz Dyrektor Centrum Badań Stosowanych Fraunhofer „Connected Mobility and Infrastructure” (Instytut Fraunhofera ds. Systemów Transportowych i Infrastrukturalnych IVI Ingolstadt, Niemcy)

„Spółka ZOEK gGmbH współpracuje z XTPL S.A. w ramach projektu EnerScale, którego celem jest zastosowanie Ag Nanotuszu IJ36 XTPL jako elektrody do cienkowarstwowych ogniw słonecznych, zwłaszcza ogniw na bazie perowskitu. ZOEK gGmbH wykorzystuje tusz IJ36 w swoich urządzeniach w Centrum COPT do druku w technologii inkjet na warstwach organicznych, a także na ultracienkim szkle i folii PEN. Zasadniczo drukowanie z wykorzystaniem tuszu IJ36 jest bardzo łatwe i umożliwia uzyskanie struktur o wysokiej rozdzielczości z ostrymi krawędziami, zwłaszcza na ultracienkim szkle. Do uzyskania wysokiej przewodności warstwy srebra wykorzystujemy laserowe spiekanie. Potencjalnie pozwoli to na drukowanie wielkopowierzchniowych i oszczędnych ogniw słonecznych metodą roll-to-roll bez konieczności stosowania drogi procesów próżniowych.”

 

ZOEK gGmbH

Centrum COPT, Kolonia, Niemcy

ARTYKUŁY BADAWCZE Z WYKORZYSTANIEM NANTUSZÓW XTPL

Drop feature optimization for fine trace inkjet printing

Autorzy: Nihesh Mohan, Sri Krishna Bhogaraju, Mateusz Łysień, Ludovic Schneider, Filip Granek, Kerstin Lux, Gordon Elger

 

sprawdź

Laser-Induced Forward Transfer (LIFT) Technique as an Alternative for Assembly and Packaging of Electronic Components

Authors: Filimon Zacharatos, Marina Makrygianni, Ioanna Zergioti

 

sprawdź

Laser-induced forward transfer of conductive nanoinks

Authors: Blanca Mestre Torà, Juan Marcos Fernández Pradas

 

sprawdź

BROSZURA NANOTUSZÓW XTPL

Odkryj wysokiej jakości tusze przewodzące firmy XTPL, aby osiągać jednolite przewodzące linie o najwyższej rozdzielczości

 

 

POBIERZ

SKONTAKTUJ SIĘ Z NAMI

Masz pytania dotyczące naszych nanotuszów? Chcesz złożyć zamówienie lub zapytać o tusz o niestandardowych parametrach? Jesteśmy do dyspozycji i zawsze chętnie pomożemy.

Odpowiemy na Twoje pytania, przedstawimy Ci nasze produkty i pomożemy w wyborze nanotuszu, który najlepiej spełni Twoje potrzeby. Wypełnij formularz kontaktowy, a nasz dział Rozwoju Biznesu skontaktuje się z Tobą tak szybko, jak to będzie możliwe.

 

 

Osoba do bezpośredniego kontaktu::

 

DARIA WIĘCŁAWSKA

Business Development Specialist

daria.wieclawska@xtpl.com

Administratorem danych osobowych jest XTPL S.A. (54-066 Wrocław, ul. Stabłowicka 147; e-mail: rodo@xtpl.com). Więcej na temat przetwarzania danych osobowych znajdziesz w Informacji o Przetwarzaniu Danych.
Korzystanie z naszej strony internetowej oznacza, że w Państwa komputerze bądź innym urządzeniu podłączonym do sieci będą zamieszczane pliki cookies lub podobne, w celach statystycznych oraz funkcjonalnych. Dzięki tej technologii będziemy przechowywać i uzyskamy dostęp do informacji na Państwa komputerze lub urządzeniu, przede wszystkim, aby ułatwić Państwu korzystanie z naszej strony. Zgodę na cookies mogą Państwo w każdym momencie zmodyfikować lub odwołać w ustawieniach przeglądarki.

Dowiedz się więcej