ProdukT

Produkt:
High-Performance Materials

Gotowe nanotusze i nanopasty

  • Aż do 50% przewodnictwa elektrycznego w porównaniu do czystego srebra
  • Wysoka zawartość składnika przewodzącego
  • Doskonała stabilność

Niestandardowe materiały przewodzące

  • Niezawodny partner w zakresie prowadzonych badań
  • Wysoko skoncentrowane materiały, zapewniające największą wydajność
  • Działamy na styku technologii druku i inżynierii materiałowej, by zapewnić niestandardowe rozwiązania

Kompleksowa współpraca

Customized nanomaterials.
SYNTEZA NANOMATERIAŁÓW NA SPECJALNE ZAMÓWIENIe
Formulating nanoink.
OPRACOWANIE NANOTUSZÓW I NANOPAST DOSTOSOWANYCH DO INDYWIDUALNYCH POTRZEB
A person holding a microchip.
WSPARCIE KLIENTÓW W OPRACOWYWANIU ICH POMYSŁÓW, TWORZENIU KONCEPCJI I ŁATWEJ APLIKACJI
A laboratory employee supervising the work.
Ocena stabilności produktu na przestrzeni czasu
A laboratory employee observing the process.
Szczegółowa charakteryzacja dostarczonych materiałów
Laboratory employee operating a microscope.
PRZEPROWADZANIE DOGŁĘBNYCH STUDIÓW WYKONALNOŚCI
A lab worker during product manufacturing.
SKALOWANIE I OPTYMALIZOWANIE PRODUKCJI

Co nas wyróżnia?

Produkty

Nanotusze

Nanotusz Ag IJ36

Nanotusz Ag CL34

Nanotusz Ag CL60

Nanopasta Ag CL85

Customowe materiały

XTPL Nanoink IJ36

Nanotusz Ag IJ36

Kompatybilny z różnymi podłożami nanotusz zapewnia doskonałą stabilność druku i wysoką przewodność elektryczną.

Kompatybilny z metodami

  • Inkjet

Charakterystyka

  • Zawartość srebra (% wag.) 34 ± 2
  • Gęstość [g/cm³] 1.3 ± 0.1
  • Średnia wielkość nanocząstek [nm] (TEM) 35 – 50
  • Kształt nanocząstek Sferyczny
  • Rezystywność elektryczna [μΩ · cm]* < 3.95
  • Lepkość (25°C) [cP] 26 – 30 (SR = 40 s-1)
  • Napięcie powierzchniowe [mN/m] (25°C) 29
  • Rozpuszczalnik(i) Eter glikolowy
  • Pobierz kartę techniczną IJ36 TDS PDF

* Dla zalecanych warunków spiekania

XTPL Nanoink CL34

Nanotusz Ag CL34

Przewodzący tusz o niższej lepkości, odpowiedni do drukowania elektroniki, może być stosowany na różnych podłożach.

Kompatybilny z metodami

  • Aerosol jet
  • LIFT

Charakterystyka

  • Zawartość srebra (% wag.) 32 ± 2
  • Gęstość [g/cm³] 1.5 ± 0.1
  • Średnia wielkość nanocząstek [nm] (TEM) 35 – 50
  • Kształt nanocząstek Sferyczny
  • Rezystywność elektryczna [μΩ · cm]* < 3.25
  • Lepkość (25°C) [cP] 200 – 400 (SR = 2 s-1)
  • Rozpuszczalnik(i) Glikol(e)
  • Pobierz kartę techniczną CL34 TDS PDF

* Dla zalecanych warunków spiekania

XTPL Nanoink CL60

Nanotusz Ag CL60

Nanotusz umożliwia drukowanie cienkich linii przewodzących o wysokim współczynniku wysokości do szerokości po jednokrotnym przejeździe głowicy.

Kompatybilny z metodami

  • Microdispensing
  • LIFT

Charakterystyka

  • Zawartość srebra (% wag.) 58 ± 2
  • Gęstość [g/cm³] 2.1 ± 0.2
  • Średnia wielkość nanocząstek [nm] (TEM) 35 – 50
  • Kształt nanocząstek Sferyczny
  • Rezystywność elektryczna [μΩ · cm]* < 5.11
  • Lepkość (25°C) [cP] 30 000 – 50 000 (SR = 0.2 s-1)
  • Rozpuszczalnik(i) Glikol(e)
  • Pobierz kartę techniczną CL60 TDS PDF

* Dla zalecanych warunków spiekania

XTPL Nanopaste CL85

Nanopasta Ag CL85

Nanopasta o właściwościach zapobiegających zatykaniu dyszy, przeznaczona do nanoszenia bardzo cienkich linii o wysokim współczynniku wysokości do szerokości.

Kompatybilny z metodami

  • XTPL® Ultra-Precise Dispensing
  • LIFT
  • Microdispensing

Charakterystyka

  • Zawartość srebra (% wag.) 82 ± 2
  • Średnia wielkość nanocząstek [nm] (TEM) 35 – 50
  • Kształt nanocząstek Sferyczny
  • Rezystywność elektryczna [μΩ · cm]* < 4.65
  • Lepkość (25°C) [cP] > 1 000 000 (SR = 0.2 s-1)
  • Rozpuszczalnik(i) Glikol(e)
  • Pobierz kartę techniczną CL85 TDS PDF

* Dla zalecanych warunków spiekania

XTPL Silver Nanoinks

Niestandardowe rozwiązania

Wspólnie z działem R&D opracowujemy rozwiązania zgodne z indywidualnymi potrzebami klientów.

Przedstaw nam swoje oczekiwania, a my stworzymy dostosowany do nich produkt.

Opinie klientów

Laser Zentrum Hannover e.V., Niemcy

Additive Manufacturing – Polymers and Multimaterials Group

„W naszej firmie Laser Zentrum Hannover szukaliśmy tuszu przewodzącego o wysokiej lepkości specjalnie pod nasz układ mikrodepozycji, w którym zastosowano bardzo wąskie dysze (z otworem <10 µm). Okazało się, że Ag Nanopasta CL85 doskonale nadaje się do naszych zastosowań, gdzie celem jest drukowanie struktur o wielkości poniżej 10 µm. Ag Nanopasta CL85 oferowana przez XTPL pozwala osiągać długie czasy drukowania bez jakichkolwiek przerw.”

Nanopasta Ag CL85

Prof. Juan Marcos Fernández-Pradas

Grupa Badawcza MIND (Micro and Nanotechnology and Nanoscopies for Electronic and Electrophotonic Devices), Uniwersytet Barceloński, Hiszpania

„Ag Nanopasta CL85 pozwoliła nam poprawić rozdzielczość druku w stosunku do innych tuszów o wysokiej zawartości cząstek stałych, przy jednocześnie wyjątkowo gładkiej powierzchni uzyskiwanych wzorów.”

Nanopasta Ag CL85

Pietro Rossi

Grupa ds. Drukowanej i Molekularnej Elektroniki we Włoskim Instytucie Technologicznym (Istituto Italiano di Tecnologia), Mediolan, Włochy

„Jesteśmy pod dużym wrażeniem wysokiej stabilności natryskiwania i formulacji Ag Nanotuszu IJ36. Dzięki formulacji tuszu XTPL proces drukowania jest łatwy i pozwala uzyskać stabilne i precyzyjne struktury. Także bardzo dobrze oceniamy zwilżalność na podłożach PEN. Przewodność elektryczna drukowanych struktur jest również bardzo wysoka i zgodna z naszymi oczekiwaniami.”

Nanotusz Ag IJ36

Prof. Dr. Gordon Elger

Dyrektor ds. Badań nad Opakowaniami dla Mikroeletroniki (Instytut Innowacyjnej Mobilności, Technische Hochschule Ingolstadt) oraz Dyrektor Centrum Badań Stosowanych Fraunhofer, Niemcy

„Byliśmy pod wrażeniem wysokości struktur (nawet 200 nm), które udało się osiągnąć dzięki nanotuszowi XTPL Ag IJ36 już po jednym „przejeździe” głowicy. Co ważne, depozycja tuszu XTPL z zastosowaniem metody inkjet jest efektywna zarówno z kartridżami Dimatix 10 pL, jak i 1 pL. Dzięki temu w ramach tej metody jesteśmy teraz w stanie uzyskiwać wysokiej jakości wzory o wyższej rozdzielczości. Z takim tuszem możemy skoncentrować się na badaniach, a nie na problemach związanych z samym drukowaniem.”

Nanotusz Ag IJ36

ZOEK gGmbH

COPT Center in Köln, Germany

„Spółka ZOEK gGmbH współpracuje z XTPL S.A. w ramach projektu EnerScale, którego celem jest zastosowanie Ag Nanotuszu IJ36 XTPL jako elektrody do cienkowarstwowych ogniw słonecznych, zwłaszcza ogniw na bazie perowskitu. ZOEK gGmbH wykorzystuje tusz IJ36 w swoich urządzeniach w Centrum COPT do druku w technologii inkjet na warstwach organicznych, a także na ultracienkim szkle i folii PEN. Zasadniczo drukowanie z wykorzystaniem tuszu IJ36 jest bardzo łatwe i umożliwia uzyskanie struktur o wysokiej rozdzielczości z ostrymi krawędziami, zwłaszcza na ultracienkim szkle. Do uzyskania wysokiej przewodności warstwy srebra wykorzystujemy laserowe spiekanie. Potencjalnie pozwoli to na drukowanie wielkopowierzchniowych i oszczędnych ogniw słonecznych metodą roll-to-roll bez konieczności stosowania drogi procesów próżniowych.”

Nanotusz Ag IJ36

XTPL silver nanoinks

Zapoznaj się z naszymi broszurami

Sprawdź naszą ofertę wysokoskoncentrowanych nanomateriałów, które niewlują ograniczenia związane z minimalnym rozmiarem dyszy drukującej.

Tusze i pasty na bazie srebra Pasta na bazie złota Materiały niestandardowe

Skontaktuj się z nami

  • Przedstawimy Ci naszą firmę.
  • Pomożemy Ci znaleźć zastosowanie naszej technologii w Twoim biznesie.
  • Wyjaśnimy, jakie korzyści dla Twojej branży niesie technologia mikrodruku.

Napisz do nas:

Krzysztof Kozłowski

Business Development
Specialist

Please enable JavaScript in your browser

Administratorem Twoich danych osobowych jest XTPL S.A. z siedzibą we Wrocławiu pod adresem ul. Legnicka 48E, 54-202 Wrocław („XTPL S.A.”). Dane osobowe będą przetwarzane przez XTPL S.A. w celu odpowiedzi na wysłane zapytanie, w tym w szczególności w celu nawiązania współpracy lub przesłania informacji handlowej o produktach XTPL S.A. Masz prawo m.in. dostępu do swoich danych osobowych oraz do
ich poprawiania. Szczegółowe informacje o przetwarzaniu danych osobowych uzyskasz na https://xtpl.com/pl/przetwarzanie-danych-osobowych/ lub kontaktując się z nami pod adresem rodo@xtpl.com

Skontaktuj się z nami